【概述】
半导体、集成电路芯片及封装、液晶显示、高精度线路板、光电器件、各种电子器件、微电子工业、大规模、超大规模集成电路需用大量的高纯水、超纯水清洗半成品、成品。集成电路的集成度越高,线宽越窄,对水质的要求也越高。(一般要求超纯水电阻率18.2MΩ.cm(25℃)、TOC<5ppb、细菌内毒素<0.03EU/ml)这对电子工业纯水、超纯水处理系统工艺及其产品的易用性、自动化程度、生产的连续性、可持续性等提出了更加严格的要求。
【国家标准】(GB/T11446.1-1997)
目前我国电子工业部把电子级水质技术分为五个行业标准,分别为18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm,以区分不同水质。
中国国家电子级超纯水规格 GB/T11446.1-1997
|
电阻率 |
硅 |
铜 |
锌 |
镍 |
钠 |
钾 |
氯 |
>1μm颗粒 |
细菌 |
硝酸根 |
磷酸根 |
硫酸根 |
TOC |
EW-I |
≥18* |
2 |
0.2 |
0.2 |
0.1 |
0.5 |
0.5 |
1 |
0.1 |
0.01 |
1 |
1 |
1 |
20 |
EW-II |
≥15 ** |
10 |
0 |
0 |
1 |
2 |
2 |
1 |
5 |
0.1 |
1 |
1 |
1 |
100 |